硅胶产品怎么去除静电解决外面防尘问题

理论上，硅胶表面存有氧气原子，带负极和静电，尘粒则带有正极，因此尘粒和硅胶静电表面可相互吸引，使表面沾尘难于清理，影响产品外不雅观。

针对硅胶表面随意马虎沾尘的问题，硅胶制品厂致力研究办理方案，结果创造，利用等离子表面改性技能可改进有关表现，终极成功以等离子体赞助化学气相沉积(PECVD)技能，达到优化产品表面性子的效果。

受静电影响，一样平常硅胶随意马虎沾尘，厂商若以传统化学涂层方法，防尘及润滑涂层功效只可坚持数个月。
好的方法因此等离子能量将硅胶表面的氧气原子改性，将负极硅胶表面改为正极，过程中利用无害的有机化学品，不会排出污染废物，因此是清洁生产工艺。
其较低静电量特质，防尘效用高，适用于腕表表带等，亦可用于医疗设备。

等离子体表面处理技能适用于纤维、聚合物和塑胶等物料，亦可运用于洗濯、活化及蚀刻金属、塑胶与陶瓷材料的表面部分，改变材料表面的物理特色。
硅胶产品防尘处理环保工艺，可有效办理硅胶静电、随意马虎沾尘问题，延长产品寿命，是一种硅胶表面处理工艺。
它可运用于所有硅胶及干系产品。

高能量脉冲式等离子磁控溅射技能(HPPMS)是结合「高能量」和「脉冲式」两大特色的新型磁控溅射系统。
在镀层过程上，电源扮演主要的角色，采取「高能量」和「脉冲式」的放电办法，可于少于2微秒的短韶光，发出高达1500V输出电压的强大能量，犹如闪电征象。
由于过程中开释大量的离子，肃清镀膜的内应力，因此可制成厚离子镀层，无损产品或工件的表面。
这种办法可提高离化率，即改进涂层在产品表面的附着力。

高能量脉冲式等离子磁控溅射技能，能超越传统的磁控溅射方法，制作出高质量多于3m的厚离子镀层。
由于高能量脉冲办法有利增加离子的密度，不但加强镀层与底材之间的接协力，亦可减低表面粗糙度，在功能性部件上可进一步增强耐磨性能及减少更换次数。

对装饰性强的硅胶产品来说，可保持外不雅观及更耐用，因此以高能量脉冲式制作镀层，能有效利用等离子体，从而掌握涂层的构造，其特点是可沉积在光滑致密的微细构造，提升耐堕落性及表面光洁度。
又或是可沉积在繁芜的几何工件之上，达致更均匀的涂层。

文章编辑：帝博硅胶制品