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芯东西("大众年夜众号:aichip001)作者 | 高歌编辑 | 心缘
芯东西7月13日宣布,昨日,半导体设备厂商拓荆科技株式会社(以下简称“拓荆科技”)报告科创板IPO已获受理。
拓荆科技主营业务为半导体薄膜沉积设备的研发、生产和发卖,其紧张产品包括等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备、原子层沉积(ALD)设备和次常压化学气相沉积(SACVD)设备三个系列。目前拓荆科技的产品已广泛运用于海内的28/14nm逻辑芯片、19/17nm DRAM芯片和64/128层3D NAND FLASH晶圆制造产线,并开始了10nm及以下制程产品验证测试。
▲拓荆科技产品(来源:拓荆科技官网)
在半导系统编制程中,为了对所利用的材料赋与某种特性,在材料表面上常以各种方法形成薄膜而加以利用,这种薄膜形成的过程一样平常称为薄膜沉积。半导体薄膜沉积设备和光刻机、刻蚀机一样,是芯片制造的三大主设备。
2018年-2020年,拓荆科技营收增长较快,从7064.4万元增长至4.36亿元,复合增长率达148.32%。
本次IPO拓荆科技操持募资10亿元,操持分别用于高端半导体设备扩产、前辈半导体设备的技能研发与改进、ALD设备研发与家当化和补充流动资金4个项目。
▲拓荆科技募资方向与利用安排(来源:拓荆科技招股书)
国家集成电路基金为拓荆科技第一大股东,所占股份比例为26.48%。由于最近2年内,拓荆科技第一大股东所持股权比例不敷控股,其他股东持股比例相对分散,以是拓荆科技不存在控股股东。2019年1月1日至今,拓荆科技无实际掌握人。
▲拓荆科技股权构造(来源:拓荆科技招股书)
一、2019年营收增长255%,中芯国际、华虹集团、长江存储为紧张客户报告期内,2018年-2020年拓荆科技业务收入分别为7064.40万元、2.51亿元和4.36亿元,2021年第一季度其营收为5774.10万元。2019年和2020年拓荆科技营收较上年同期增幅分别为255.66%和73.38%。
净利润方面,拓荆科技至今仍在持续亏损,但亏损金额有所减少。2018年-2020年拓荆科技净利润分别为-1.03亿元、-1936.64万元和-1087.57万元,2021年第一季度净利润为-944.59万元。
报告期内,拓荆科技2018年-2021年第一季度各期研发用度分别为1.08亿元、7431.87万元、1.23亿元和2714.86万元,占各期业务收入的比例分别为152.84%、29.58%、28.19%和47.02%。较大的研发投入是拓荆科技亏损的紧张缘故原由之一。
▲拓荆科技2018年-2021年第一季度各期营收、净利润、研发投入变革
拓荆科技产品紧张分为等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备、原子层沉积(ALD)设备和次常压化学气相沉积(SACVD)设备三个系列。报告期内PECVD设备收入占总营收比例一贯超过75%,业务收入增速也较快,是拓荆科技的紧张收入来源。
2018年、2019年、2020年和2021年第一季度PECVD设备收入占拓荆科技总营收比例分别为77.98%、100%、97.55%和100%。其余两项业务仍处于市场开拓阶段,2021年第一季度2项业务收入为0。
▲拓荆科技各业务营收金额及占比(来源:拓荆科技招股书)
从发卖情形来说,拓荆科技客户较为集中。其PECVD设备的紧张客户有中芯国际、华虹集团、长江存储和重庆万国半导体科技有限公司;ALD设备紧张客户为上海集成电路研发中央有限公司(ICRD);SACVD设备的紧张客户则是北京燕东微电子科技有限公司。
个中,中芯国际、华虹集团和长江存储从2018年至2021年第一季度一贯为拓荆科技前五大客户。
▲拓荆科技2018年-2021年第一季度前五大客户(来源:拓荆科技招股书)
在供应方面,拓荆科技采购的原材料紧张包括机器类、机电一体类、电气类、气体运送系统、真空系统和附属设备等。
报告期内,拓荆科技前五大供应商变动较小,2018年至今7家厂商曾是拓荆科技的前五大供应商。
▲拓荆科技2018年-2021年第一季度前五大供应商(来源:拓荆科技招股书)
二、产品总体性能已达国际同类水平,研发职员占比超4成从市场上来看,环球半导体薄膜沉积设备市场紧张由美国运用材料、美国泛林半导体、日本东京电子、荷兰先晶半导体等企业霸占主导地位。
招股书显示,2019年,在环球化学气相沉积(CVD)设备市场中,运用材料、泛林半导体、东京电子的市场霸占率分别为30%、21%和19%;在ALD设备环球市场中,东京电子(TEL)、先晶半导体(ASMI)的市场霸占率分别为31%和29%。
▲环球ALD、CVD、PVD设备市场份额(来源:拓荆科技招股书)
比较于上述公司,拓荆科技在营收、毛利率和净利润等盈利指标上存在较大差距,在融资渠道和研发经费上相对不敷。此外,拓荆科技的业务收入也比较集中,相对外国半导体设备巨子来说企业认知度不敷,面临一定的市场进入壁垒。
另一方面来看,拓荆科技已形成覆盖20余种工艺型号的薄膜沉积设备,知足晶圆制造产线多种工艺需求。其产品总体性能和关键性能参数已达到国际同类设备水平。
▲拓荆科技产品性能关键参数水平评价(来源:拓荆科技招股书)
这样的产品性能离不开研发团队的努力和企业的技能积累。
在研发团队方面,拓荆科技研发职员共有142人,占公司员工总数的43.56%。其核心技能职员有公司创始人兼董事姜谦、董事长吕光泉、总经理田晓明、副总经理张孝勇、副总经理周坚、监事会主席兼资深技能总监叶五毛和产品部总监宁建平等7人。
个中,姜谦和田晓明拥有35年的半导体设备行业履历,吕光泉则具有27年的高端半导体设备行业研发、管理履历。3人都是美国国籍。
▲拓荆科技董事长吕光泉(左一)和创始人、董事姜谦(右一)
姜谦曾在美国布兰迪斯大学获博士学位。1982年1月至1984年6月,姜谦任麻省理工学院材料科学工程中央研究员。1984年7月,姜谦于英特尔就职,历任工程师、研究员、项目经理、部门经理等多个职位。此后他在美国诺发、欣欣科技(沈阳)有限公司担当过副总裁和实行董事职务。2010年4月至今,姜谦任职于拓荆科技。
吕光泉为美国加州大学圣地亚哥分校博士,1994年8月至1996年4月,他任美国科学基金会尖端电子材料研究中央电子材料副研究员;1996年4月至2007年7月,吕光泉就职于美国诺发,历任高等工程师、PECVD工艺研发部经理、项目主任兼工艺研发高等经理、ALD技能高等经理;2007年7月至2014年8月,他就职于德国爱思强公司。2014年9月至今,吕光泉于拓荆科技任职。
田晓明则有美国东北大学电子工程学硕士和新加坡南洋理工大学工商管理硕士学位。1991年9月至1994年12月,田晓明任美国Codi Semiconductor,Inc.工艺开拓经理;1994年12月至2008年10月,他就职于泛林半导体,担当过资深工艺工程师、资深工艺研发经理、资深大客户经理、中国区技能总监等职位;2008年10月至2018年2月,田晓明为尼康精机(上海)有限公司资深副总裁;此后,田晓明就职于拓荆科技。
技能积累方面,拓荆科技,在机台构造、传动模块、反应腔体、关键构造件、气路、温度掌握系统等方面,形成了一系列自研设计,构建了较为完善的知识产权体系。截至招股书签署日,拓荆科技累计已获授权的专利167项,个中发明专利共计86项。
三、大基金为第一大股东,中微董事长尹志尧任董事根据招股书,本茨发行前拓荆科技的前三大股东分别为国家集成电路基金、国投上海和中微半导体,其所持股份比例分别为26.48%、18.23%和11.20%。中微半导体也提名了其董事长兼总经理尹志尧作为拓荆科技董事。
别的持股超过5%的股东还有嘉兴君励和润扬嘉禾,持股比例分别为7.39%和6.57%。
结语:收入来源较为单一,盈利周期仍不愿定
在新建晶圆厂中,薄膜沉积设备作为晶圆制造的关键一环,其投资规模占晶圆制造设备总投资的25%旁边。当前,环球薄膜沉积设备市场份额被运用材料、泛林半导体、东京电子等行业巨子所霸占。
拓荆科技作为我国薄膜沉积设备头部厂商之一,基本上代表了我国PECVD等产品的水平。其IPO如果能够成功,对我国薄膜沉积设备家当技能实力有着积极影响。但值得把稳的是,拓荆科技当前收入较为依赖PECVD设备,ALD、SACVD设备处于市场开拓阶段,盈利周期有着不愿定性。
处于市场开拓阶段,盈利周期有着不愿定性。
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