俄罗斯制造出首台国产350nm芯片光刻机并流传宣传2028年投产7nm芯片设备｜硅基世界

钛媒体App 5月26日，据当地，日前举行的“工业俄罗斯数字家当”会议上，俄罗斯联邦工业和贸易部副部长瓦西里施帕克（Vasily Shpak）表示，俄罗斯自己研发的首台光刻机已经制造完成并正在进行测试，该设备可确保生产350nm制程工艺芯片，可运用于汽车、能源和电信等行业当中。

“我们组装并制造了第一台国产平版印刷光刻机，目前它正在作为泽列诺格勒技能生产线的一部分进行测试，”施帕克表示。
据悉，这款芯片光刻机的本钱约为500万卢布（4.95万美元）。

这一主要对付环球半导体行业，乃至环球而言，有着重要意义。
如果施帕克说法属实，就意味着，俄罗斯将成为继美国、荷兰、日本等国之后，第五个完备节制光刻技能的国家，同时也是在美国制裁之下唯一自研出全新芯片光刻机的国家。

实际上，早在2001年，环球首次生产出130纳米尺寸的芯片，而350-65nm拓扑构造的芯片运用于微掌握器、电力电子、电信电路、汽车电子等领域。

目前在半导系统编制造行业，DUV（深紫外）光刻机可以用于制造7nm及以上制程的芯片，涵盖了大部分数字芯片和险些所有的仿照芯片，随着制程向5nm、3nm进化，EUV（极紫外光）设备成为未来光刻技能和前辈制程的核心。
而用于7nm及以下前辈芯片制造工艺的光刻机设备中，ASML公司是唯一的供应商。
Gartner数据显示，2020年，ASML在环球光刻机市场份额达到95%。

相对付ASML设备，俄罗斯制造的是350nm光刻机，也被称为超紫外线平版印刷术。
据塔斯社阐明，平版印刷是生产纳米构造的最广泛的技能之一。
最初，平版印刷是一种印刷方法，通过在压力下将油墨从平坦的印版转移到光滑的表面来进行印刷。
而微纳电子学中，光刻在硅基板表面的分外敏感层（抗蚀剂）中形成浮雕图案，该图重复了微电路的几何形状。

当前，由于俄乌冲突，ASML、尼康等厂商的光刻设备已经停滞向俄罗斯供应。

据专业机构ImportGenius供应的从2017年到2021年7月的146000条海关记录显示，2021年上半年，俄罗斯仅入口了4000万美元的芯片，一年估量在1亿美元旁边，比较于环球整年5000亿美元的市场规模，险些没有太多存在感。

2023年，俄罗斯政府批准海内微电子行业的两份关键文件：《到2030年技能发展构想》，以及俄罗斯联邦总统令《俄罗斯微电子发展国家政策基本原则》，推动到2030年俄罗斯芯片家当发展方案，核心在于俄罗斯要自己发展电子零部件、技能本地化以及独立于西方专有等办理方案。

根据方案，到2030年，俄罗斯半导体在世界市场的份额将靠近3%，而国产电子元器件比例将从目前的11%提高到2030年的70%。

与此同时，俄罗斯总统普京宣告，将拨款超过2400亿卢布（约合公民币174.62亿元），用于帮助电子工程发展的综合操持，包括到2030年培植新工厂。

目前，俄罗斯有两家紧张的晶圆厂，分别是Mikron和Angstrem公司，前者供应65-250nm芯片制造能力，后者（2019年破产重组）供应90-250nm芯片制造，拥有8英寸晶圆厂，两家都以供应军用、航天和工业领域芯片产品为主。
因此，估量新的国产光刻机设备将会供应到两家企业当中。

施帕克这次透露，估量到2026年，俄罗斯将会制造出首台国产130nm光刻原型机，目前设计已制作完成，正在进行测试。
下一步，俄罗斯将进行90nm光刻机的开拓。
生产将在莫斯科、泽列诺格勒、圣彼得堡和新西伯利亚的现有工厂进行。

“我们将逐步迈向90纳米及以下，因此，我们不会止步于此，我们已经采纳了全面的电子工程操持，”施帕克说道。

同时，据俄罗斯科学院下属的诺夫哥罗德运用物理研究所 (IPF RAS）透露，俄罗斯还将制造首台国产7nm芯片光刻机设备，可于2028年全面投产。

据先容，他们操持在六年内制作出光刻机的工业原型，首先要在 2024 年开拓一台 alpha 机器。
这一阶段的重点不在于其事情或办理的高速性，而在于所有系统的全面性。
然后到 2026 年，alpha 该当被 Beta 所取代。
届时所有系统都将得到改进和优化，分辨率也将得到提升，生产力也将提高，许多操作将实现机器自动化。
这一阶段主要的是要将其集成到实际的技能流程中，并通过“拉起”适宜其他生产阶段的设备对其进行调试。
末了，基于现有设备将为光刻机带来更强的光源、改进的定位和馈送系统，并使得这一套光刻系统能够快速准确地事情。

而且，俄罗斯科学院院士亚历山大谢尔盖耶夫还透露，俄罗斯国家物理和数学中央（NCFM）还将构建用于生产当代芯片的 X 射线光刻机，估量两年内就可以生产出功率比AMSL强很多倍的光刻系统。
谢尔盖耶夫称，NCFM所属的一个组织同盟提出了一个创建 X 射线光刻的项目，目前只有荷兰ASML、美国国家实验室具有干系技能，可为光刻机供应技能支持。
据悉，NCFM于2021年由普京创建，联合了该国50多个研究组织、大学和高科技公司，作为其科学和技能操持的一部分。

谢尔盖耶夫强调，ASML近 20 年来一贯致力于 EUV光刻机，目标是让天下顶尖半导体厂商保持极高的生产效率。
但俄罗斯并不须要，只要根据俄罗斯海内的需求向前推进即可。

除了光刻机，俄罗斯还将发力 AI、量子打算机等前沿技能。
莫斯科国立大学物理学院量子技能中央高等研究员斯坦尼斯拉夫斯特劳普（Stanislav Straupe）日前表示，俄罗斯可以在国家参与下创建量子打算机。

“我们已经学会了用自己的双手制造量子位和量子打算机的其他组件，但其生产所需的技能根本，包括电子光刻和其他纳米制造设备，并不是在俄罗斯制造的，我们须要创造根本，以便能够实现这一点。
”斯特劳普称。

然而，美国媒体普遍认为，俄罗斯的想法彷佛太过天真，毕竟想在6年内仅凭自己研发出可媲美 ASML 十年积淀的光刻技能实在是有点难以令人相信，且晶圆厂并非光靠光刻机就可生产出芯片，还须要许多外围设备，而俄罗斯并不知足独立生产这些设备的条件。

俄罗斯电子开拓商和制造商协会（ARPE）卖力人伊万波克罗夫斯基认为，芯片技能是天下是最困难的事情，俄罗斯可以进行芯片开拓、生产，这是国家必须选择重点领域，否则会被西方国家遏制住。

“一个大略的逻辑，如果没有半导体主权，那就没有技能主权。
”施帕克表示，到2023年，俄罗斯将拥有3nm芯片产品，生产水平也将提高到14nm。

那你认为，俄罗斯真的能造出属于自己的国产芯片吗？

（本文首发于钛媒体App，作者｜林志佳，编辑｜胡润峰）