当前位置:首页 > 空调维修 > 文章正文

小白也能看懂 半导系统编制程/工艺/分娩的秘密

编辑:[db:作者] 时间:2024-08-25 04:07:33

  制程的秘密:多少nm很主要吗?

  摩尔定律大家肯定都知道:每过18个月,单位面积上的晶体管数量增加一倍嘛!
然而多年来半导系统编制程从65nm到32nm,再到28nm,还有近两年的14nm、16nm和10nm,觉得也没什么规律啊!
这里我们就须要认识一下尺寸的打算办法,以及“半代升级”和“整代升级”的观点了。

小白也能看懂 半导系统编制程/工艺/分娩的秘密

  首先,单位面积内晶体管数量翻倍并不虞味着制程就要缩小一半,缩小一半的话单位面积晶体管数量不就翻4倍吗?以是如果要担保两倍的发展,那么整代升级该当乘以0.7。
以是从14nm 到10nm,以及后面从10nm 到7nm,都是遵照了摩尔定律的整代升级。

  但是在几年以前,我们却经历过一段“半代升级”的风潮,冲破了0.7的规律。
在 40nm 前后几年,恰好是存储器需求飞速发展的韶光段,考虑到0.9倍的制程升级就能将闪存容量提升1.24倍,且0.9倍的升级技能大略,半年就能完成,以是不少代工厂开始“半代升级”制程来帮助 NAND 闪存厂商抢占市场。

  正常来说制程升级该当是45nm—32nm—22nm—14nm—10nm,也便是经典的Tick Tock。
但是台积电当年在 45nm 之后却推出40nm,这也迫使英特尔和三星等厂商冲破了规律,在2010年前后启用了 NAND 专属的 35nm 制程(有趣的是华为海思四核也用了35nm 制程)。
而鸡贼的台积电后来又跳到 28nm,抢占制程高地,这显然让英特尔和三星很不愉快,所往后期三星和英特尔都回到了正常的升级策略,并且从那往后,英特尔就一贯对半代升级嗤之以鼻(恼羞成怒)。

  而台积电在坚持了 20nm 和 16nm 两代之后,也主动回到了 10nm 的正轨。
缘故原由非常大略,由于 NAND 颗粒并不是制程越小性能越好,20nm 之后就会发生严重的电子滋扰,以是在 20nm 制程后,各大厂商都转向了3D NAND 技能(如果大家对闪存有兴趣我们今后也可以科普),再今后大家也不在 NAND 的制程上较劲了。

  工艺的秘密:这些字母实在很好懂

  至于后缀的那些英文实在也不难明得,比如 FinFET 工艺(把稳哦,多少纳米叫制程,而后缀指的是工艺),这一工艺最早由英特尔在22nm 制程时提出,而现在英特尔、台积电和三星都用的 FinFET 。

  由于制程中 22nm 是指每个晶体管中两个栅极之间的间隔,以是 22nm 并不是指晶体管尺寸,一样平常一个 22nm 制程的晶体管尺寸高达 90nm ,而栅极间距越小电子流动的韶光就越短,以是性能就提升了。
但是随着栅极间隔越来越小,绝缘效果就会低落导致泄电,以是每经由几代制程升级,就须要有一次工艺升级来办理这个问题。
FinFET 之前已经有过High-K、HKMG 等工艺了,而 FinFET 之后,我们还会见证 FD-SOI 、GAA的竞争。

  至于 FinFET 的事理,它的全称是“鳍式场效晶体管”,大略说来便是讲栅极之间的绝缘层加高,来增强绝缘效果减少泄电征象,是不是以为挺傻瓜的?但每每是看起来很大略的想法,实现起来却无比困难。

  说完了 FinFET,我们还有末了一个后缀,便是昨天宣布中的 LPP、LPE 了,实在这些指的都是同一代工艺中的不同种类,比如 LPE(Low Power Early) 指早期低功耗工艺,而 LPP(Low Power Plus)指成熟的低功耗工艺,而适用于移动设备的 LP 系列实在还包含 LPC、LPU 。
而且这些后缀并不是10nm 专属,三星 FinFET 工艺都是这样的命名办法,比如14nm FinFET 中,骁龙820是 LPP,而骁龙821则是 LPU。

  并且除了 LP 系列之外,当然还有主打高性能的 HP(High Performance)系列, 这个中又分为很多种,这里就不展开讲了。
但是这也只是三星芯片的划分方法,像台积电虽然也是 FinFET 工艺,但是却分为了FinFET Plus、FinFET Compact 等几种。

  生产的秘密:光刻机被卡脖子啦!

  说完了技能,我们末了不如落莅临盆上聊一聊?毕竟随着工艺的提升,对付生产设备的哀求也越来越高了,过去各家在蚀刻晶圆的过程中用的都是深紫外光微影系统,简称 DUV,而随着制程超过10nm,现在 DUV 已经知足不了精度哀求,这时极紫外光微影系统(EUV)就上线了。

  说到 EUV 是不是以为很眼熟?没错,不久前三星刚刚以1.5亿欧元每台的价格从 ASML 订购了10台 EUV ,然而 ASML 这么久也一共才生产了23台,很显然,三星是想在 8nm/7nm 时期抢占先机。
这已经不是他们第一次这么做了,当初在 OLED 的发展初期,他们就买走了市情上仅有7台蒸镀机中的5台(蒸镀是OLED 生产中的主要步骤),借此延缓了 LG 和京东方的 OLED 生产操持。

  总而言之,现在半导体行业在进入10nm 时期之后,无疑将会面临制程、工艺以及生产的三重寻衅,未来三星、台积电和 Intel 是会连续三足鼎立,还是会有人旧人掉队、新人加入呢?我们拭目以待!

本站所发布的文字与图片素材为非商业目的改编或整理,版权归原作者所有,如侵权或涉及违法,请联系我们删除,如需转载请保留原文地址:http://www.baanla.com/ktwx/113169.html

XML地图 | 自定链接

Copyright 2005-20203 www.baidu.com 版权所有 | 琼ICP备2023011765号-4 | 统计代码

声明:本站所有内容均只可用于学习参考,信息与图片素材来源于互联网,如内容侵权与违规,请与本站联系,将在三个工作日内处理,联系邮箱:123456789@qq.com