编辑:[db:作者] 时间:2024-08-25 04:29:48
专利择要显示,本发明公开了一种化学镀设备及表面处理系统,该化学镀设备包括:储液装置,所述储液装置开设有用于容纳镀液的第一容纳槽;及锁定组件,所述锁定组件设有用于锁定待镀件的锁定部,所述锁定部可迁徙改变地设置于所述第一容纳槽内,或所述锁定部可相对所述第一容纳槽迁徙改变使所述待镀件能够在所述第一容纳槽内和所述第一容纳槽外之间切换。该化学镀设备及表面处理系统在利用时,可以充分利用第一容纳槽的空间,使化学镀设备霸占空间小。
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