俄罗斯首台国产光刻机已完成制造可分娩350nm制程芯片

5月25日，据俄罗斯塔斯社宣布称，在CIPR 2024会议期间，俄罗斯联邦工业和贸易部副部长瓦西里什帕克（Vasily Shpak）见告塔斯社，俄罗斯首台国产光刻机已经制造完成，并正在泽列诺格勒进行测试，该设备可确保生产350nm的芯片。

虽然350nm是一种非常成熟的制程，但是依然可以知足部分汽车、能源和通信行业的芯片需求。

早在2023年，Vasily Shpak在接管媒体采访时就曾表示，2024年俄罗斯将开始生产350nm光刻机，2026年启动用于生产130nm制程芯片的光刻机。
光刻机的生产将在莫斯科、泽列诺格勒、圣彼得堡和新西伯利亚的现有工厂进行。

光刻机对付半导体的生产极为主要，当前环球只有荷兰ASML、日本尼康和佳能、中国的上海微电子这四家公司能够生产光刻机，但是能够生产前辈制程的光刻机只有ASML、尼康和佳能能够供应。

Vasily Shpak此前就曾指出，一个大略的逻辑便是，如果没有半导体主权，那就没有技能主权，这将导致国防安全和政治主权方面就非常薄弱。
而现在俄罗斯已经节制了利用国外国光刻机制造65nm芯片的技能，但由于外国公司被禁止向俄罗斯出口前辈的光刻机，以是俄罗斯也正在积极开拓自己的光刻机。

根据此前曝光的操持，2024年俄罗斯将拨款2,114亿卢布（约合公民币166.16亿元）用于海内电子产品的开拓，其将包括可以生产350nm制程芯片的光刻机，2026年将启动用于生产130nm制程芯片的光刻机。
而俄罗斯决定开拓350nm到65nm光刻机的缘故原由，在于这一技能范围内的芯片多用于微掌握器、电力电子、电信电路、汽车电子等方面上，这些运用大约霸占了全体市场的60%。
以是，这类光刻机在全天下市场的需求量很大，并且将在至少10年内有持续的需求。

其余，当被问到可能遭遇的阻力时，Vasily Shpak说，“我不想抱怨，所有的问题都不是问题，由于这关系到我们拥有哪些机会，以及所设定的目标。
”

编辑：芯智讯-林子