真空镀膜产品常见不良分析及改进对策

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真空镀膜产品常见不良剖析

一、 膜强度

膜强度是镜片在镀膜的一项主要指标，也是镀膜工序最常见的不良。

1) 擦拭或用专用的胶带拉撕，产生成片的脱落；

2) 擦拭或用专用的胶带拉撕，产生点状的脱落；

3) 水煮15分钟后用专用的胶带拉撕产生点状或片状的脱落；

4) 用专用橡皮头、1KG力摩擦40次，有道子产生；

5) 膜层擦拭或未擦拭涌现龟裂、网状细道子。

改进思路：基片与膜层的结合是紧张考虑的，其次是膜表面硬度光滑度以及膜应力的成分。

膜强度不良的产生缘故原由及对策；

1) 基片与膜层的结合；

一样平常情形，在减反膜中，这是膜弱的紧张缘故原由，由于基片表面在光学领加工及洗濯过程中不可避免地会有以下有害杂质附着在表面伤，而基片的表面由于光学冷加工的浸染，总有一些毁坏层，深入毁坏曾的杂质（如水汽、油气、洗濯液、擦拭液、抛光粉等，个中水汽为主），很难以用一样平常的方法去除干净，特殊对付亲水性好的材料，吸附力强的基片尤其如此，当膜料分子堆积在这些杂质上面时，就影响了膜层的附着，也就影响了膜强度。
此外，如果基片的亲水性差、吸附力差，对膜层的吸附差，同样会影响膜强度。

硝材化学稳定性差，基片在前加工过程中流转过程中，表面已经受到堕落，形成了堕落层或水解层（大概是局部的、极薄的）。
膜层镀在堕落层或水解层上其吸附就差，膜稳定度会受到影响。
基片表面有脏污、油斑、灰点、口水等，局部膜层附着不良，造成局部膜稳定度不良。

改进对策：

a) 加强去油去污处理，如果是超声波洗濯，应重点考虑去油功能，并担保去油溶液的有效性，如若是手擦，可考虑先用碳酸钙粉擦拭后再清擦；

b) 加强镀前烘烤，条件容许，基片温度能达到300℃以上最好，恒温20分钟以上，尽可能使基片表面的水汽、油气挥发。
温度过高时基片的附着力变大，同时也随意马虎吸附灰尘，因此须要提高真空室清洁度，真空室基片上的水汽化学解析温度在260℃以上。
不是所有的零件都须要高温烘烤，有的硝材温度高了反而膜强度不高，还会有色斑产生，这与应力及材料热匹配有较大的关系；

c) 设备机组安装冷凝机（POLYCOLD），可以提高机组抽真空的能力的同时帮助去除水汽、油气；

d) 设备安装离子源，镀前轰击，清洁基片表面，镀膜过程赞助更有利于提高膜层密度；

e) 镀膜辅耗去湿润，膜料可以存放特制的干燥柜或真空干燥柜中；

f) 保持事情区域环境干燥，清洁环境时不能有太多的水，环境保持恒温恒湿状态；

g) 薄膜设计是考虑第一层膜与基片的匹配，尽可能的利用与基片吸附力强的膜料，例如：增透膜利用 AL2O3、金属膜利用CR或CR合金；

h) 镀前采纳研磨液（抛光液）重复手动擦拭抛光，去除表面的堕落层和水解层；

i) 增透膜可以适当的降落蒸发速率，提高膜层光洁度，金属膜提高速率，或者提高设备的真空度，对付基片到蒸发源大于1米以上的镀膜机，蒸镀开始真空度应高于310-3Pa，镀膜机越大，蒸镀开启真空越高越好；

2) 膜层应力；

薄膜的成膜过程，是一个物质形态转变的过程，不可避免的在成膜后的膜层中会有应力的存在，对付多层膜来说有不同的膜料组合，各膜层表示出的应力是有所不同的，有的是张应力，有的是压应力，还有膜层及基片的热应力。
应力的存在对膜强度是有害的，轻者是膜层耐不住摩擦，重者造成膜层的龟裂或网状细道子。
对付减反膜，由于层数不多，应力一样平常表示不明显，但是有些硝材的镜片即便是减反膜也有应力问题存在，而膜层较多的高反膜、滤光片、应力是一个常见的不良成分，应特殊把稳。

改进对策：

a) 镀后烘烤，末了一层膜镀完后，烘烤不要立时停滞，延续10分钟“回火”。
让膜层构造趋于稳定。

b) 降温韶光适当延长，退货失落效，减少由于真空室外温差过大带来的热效应。

c) 对付高反膜、滤光膜等在蒸镀过程中，基片温度不宜过高，高温易产生热应力，并且对氧化钛、氧化钽等膜料的光学稳定性有负面浸染。

d) 镀膜过程离子赞助，减少应力。

e) 选择得当的膜系匹配，第一层膜料与基片的匹配

f) 适当的减小蒸发速率。

g) 对氧化物膜料全部充氧反应膜，根据不同膜料掌握氧宇量。

3) 外层膜表面硬度：

减反膜一样平常完成选用MGF2，改膜层剖面时较疏松的柱状构造，表面硬度不好，随意马虎擦拭出道子。

a) 膜系设计是许可外层加10nm旁边的SIO2层，二氧化硅的表面光滑度优于氟化镁，但是二氧化硅的表面耐磨度、硬度不如氟化镁，镀后离子轰击几分钟，稳定度效果会更好，但是表面会变粗糙。

b) 镜片出真空室后，放置在较干燥清洁的地方，防止快速吸潮，表面硬度降落。

4) 其它：

造成膜强度不良的缘故原由有真空度过低、真空室脏、基片加热不到位，赞助气体充入时，膜料也在放气，致使真空度降落，使分子自由程减少，膜层不牢，以是赞助气体的充入要考虑膜料的放气，镀膜前对膜料进行充分的预熔充分的放气，也可以避免由于蒸镀中膜料放气赵成的真空度低落，从而影响膜强度。

5) 脱膜：

这里的脱膜虽然也是膜弱的一种，但与前述的脱膜有一些差异，紧张特色为：点状脱膜、边缘脱膜局部脱膜。
紧张的缘故原由是膜内有脏污或污染物所造成。

改进方法，提高基片的清洁度，利用得当的检说情况。

二、 膜料点：

膜料点不良也是镀膜产品的一个常见的问题，在日企、台企把膜料点称为“斑孔”，顾名思义，膜料点便是在蒸镀中有大颗粒的膜料点子随着膜料蒸发一起蒸镀到了基片的表面，在基片 表面形成点的突出，有时候是个别的，有时候是成片的细点，大颗粒点乃至可以打伤到基片表面。
各种膜料的蒸发特点是不一样的，特殊是熔点温度和蒸发温度有很大差异的时候，几种特点分别是：

a) 熔点温度大于蒸发温度的材料，由固态直接气化蒸发，是升华材料；

b) 熔点温度小于蒸发温度的材料，由固态先化成液态尔后在转化成气态蒸发，是非升华材料；

c) 熔点温度与蒸发温度相称的材料，由固态到气态蒸发，边融化边蒸发，是半升华材料；

个中非升华材料最随意马虎产生膜点，由于液态的哦聊连续加热会沸腾，沸腾中膜估中的气泡溢出，飞溅膜料点的可能性加大，有时在材料预熔的时候就会有很大的飞溅。
膜料受潮，预熔或蒸镀时水汽溢出，也会造成飞溅，产生膜点，下表是几种常用的膜料的升华特点。

材料名称 熔点温度 蒸发温度 飞溅可能 备注

ZNS 1900 1100 极小

SIO2 1700 1600 很小

AL2O3 2020 2100 小

ZRO2 2715 2700 小

TIO2 1850 2000 大

TA2O5 1800 2100 较大

MGF2 1266 1540 大

膜料不纯、膜料参杂，既膜估中有了熔点温度、蒸发温度不一致的材料，这也是膜料点产生的缘故原由。

改进思路：选用好的膜料，充分预熔，掌握速率

改进对策：

a) 选择杂质少的膜料；

b) 对易飞溅的膜料选择颗粒得当的膜料；

c) 膜料在镀前利用网筛筛选一下；

d) 精心预熔，MGF2务必熔透一次蒸镀所需的膜料，而TA2O5和TIO2必须彻底熔透；

e) 用一把电子枪镀制几种膜料时，防止坩埚迁徙改变中膜料掺杂及挡板掉灰造成膜料污染，一旦创造坩埚有污染，必须急速改换；

f) 尽最大可能的是蒸发舟、坩埚清洁干净、干燥；

g) 选择得当的蒸发速率，掌握挡板开启时阻尼的幅度，特殊是非升华材料，蒸发塑料厂不宜过高；

h) 膜料去潮，将待用的膜料密封放置在干燥柜中存放；

把稳：有时候膜层的一些点子可能不是膜料点子，而是灰尘点，处理的方法与膜点不同，要要个区分剖断。

三、 膜色差异

膜色差异有两种，一种是整罩上中下膜色不一致，及分光测试曲线有差异，一种是部分或单片膜色不一致。

紧张的缘故原由有一下几种:

a) 上中下膜色不一致称为整伞均匀性不好，也称伞差，紧张的缘故原由是均匀改动板有问题；

b) 伞型变型，也是膜色不屈均的缘故原由之一，特殊是利用良久的伞片，以往是均匀的，逐步的变得不屈均了，伞片变型便是紧张的缘故原由了；

c) 膜料状况的不一致，特备是升华和半升华材料被打偏了，涌现挖坑也会影响整罩的均匀性；

d) 温度的变革，伞片中央到边缘的温差导致膜料折射率不一样，涌现膜色不屈均；

e) 公转不屈均，某区域在蒸镀时，涌如今蒸发源上方快速或慢速通过，造成区域内膜料多镀或少镀，导致膜色不屈均；

f) 有手动熔料的情形是，每个人的操作手腕不一样，得到的料况也不一样，熔料韶光的是非也不一样，

导致膜色不屈均；

改进思路：改进改动挡板、稳定温度和转速、掌握膜料预熔状态

改进对策：

a) 调度改动版，只管即便考虑高低折射率膜料的平衡兼容，如果有两个蒸发源，可能的条件下，独立利用各自的改动版，避免滋扰；

b) 条件许可的话，利用行星盘公转办法；

c) 伞片定期整形，防止变形，做好伞片的掩护报管理，防止摆放不当变形；

d) 改进膜料状况，特殊是电子枪蒸镀升华、半升华膜料时，不能把膜料打塔或挖坑，考虑分层；

e) 能够自动熔料的，只管即便自动熔料，担保同等性，减少人为成分；

改动版对物理膜厚的改动很有效，但是折半射率的改动就力不从心，以是完备靠改动版办理膜色或分光的均匀性是很困难的，如果一个改动版要对应两把电子枪，以及多种膜料，就会有较大的困难，对付是由于基片的凸凹严重，与伞片的曲率差异较大，基片上部或下部法线与蒸发源构成的蒸发角差异较大，造成一片镜片上部位接管膜料的条件差异大，形成的膜厚差异。
其余镜片被镀膜套环边缘挡光或套装开释气体污染镜片表面也会造成膜色不均。

改进思路：改进镜片镀膜的蒸发角度及治具清洁

改进对策：

a) 条件容许，用行星治具；

b) 选用伞片平坦的设备；

c) 根据伞片孔的分布，镜片形状，制作专门的锯齿形改动板；

d) 如果可以，把蒸发源王真空室中间位置移动；

e) 改进治具的角度尺寸，防止遮挡；

f) 把稳旋转伞片架的相应部位对边缘镜片的部分遮挡；

g) 定期清洁治具套环；

h) 改进膜料蒸发状况；

四、 膜脏（也称亚克）

顾名思义，膜层有脏污，一样平常的膜脏发生在膜内或膜外，脏也可以包括灰尘点、白雾、油斑、指纹印、后水等。

改进思路：反省过程，杜绝污染。

改进对策：

a) 送交洗濯或清擦的镜片不要有过多的不良附着物；

b) 加强镀前镜片的清洁度；

c) 改进上伞后待镀镜片存放区域的清洁度，防止污染；

d) 养成上伞作业员的良好习气，防止镜片表面污染（指纹印、口水圈）；

e) 缩短真空室防护板的跟换周期；

f) 氧气管道清洁，防止气体充入时的污染；

g) 初始排气放涡流，初始充气放过冲；

h) 镜片摆放环境掌握，温度湿度管理，不免搬运过程中打仗油污、水汽等；

1) 灰点脏

征象：镜片膜层表面或内部有一些点子，有的可以擦拭掉，有的擦拭不掉，并且会产生点状脱膜征象。

产生的缘故原由：

a) 真空室脏，在开始抽真空时的空气涡流将真空室底板、防护板的灰尘带到镜片上，形成灰尘层（膜内、不能擦除，会有点状的脱膜）；

b) 伞片或套环脏，有浮点灰尘，在离子束浸染下附着到了镜片上，形成灰点层，（膜内，不能擦除，会有点状脱膜）；

c) 镜片上伞时就有灰尘点，上伞时没有检讨挑选（膜内，不能擦除，会有点状脱膜）；

d) 镀制完成后的环境污染是膜外灰点的紧张缘故原由，特备是当镜片热的时候，更加随意马虎吸附灰尘，而且难以擦除（膜外）；

e) 真空室充气口环境差，开始充气的宇量比较大，充气过滤器脏，充气时镜片温度高也是造成镜片膜层中或表面灰点不良的缘故原由（膜中或膜外）；

f) 作业员人为带来的灰尘污染（膜内外）；

g) 事情环境灰尘多，条件容许，利用万级以上无尘车间，利用清洁事情台，定期打扫掩护环境；

2) 膜外白雾

征象：镀膜完成后，表面有一些淡淡的白雾，用丙酮或稠浊液擦拭，会有越擦拭越严重的想想，氧化铈擦拭，可以擦掉或减轻，称为可擦拭亚克。
膜外白雾的成因较为繁芜，可能的缘故原由有：

a) 膜构造问题，外层膜的柱状构造疏松，外层膜太粗糙；

b) 蒸发角过大，膜构造粗糙；

c) 温差，镜片出罩时内外温差过大；

d) 潮气，镜片出罩后摆放的环境潮气重；

e) 真空室内POLYCOLD解冻是水汽过重；

f) 蒸镀中充氧不完备，膜构造不屈均；

g) 膜层韶光的应力；

改进思路：膜外白雾成因很多，但各有特色，只管即便对症下药，紧张思路是把膜的致密性货号一点和改进一下环境，减少吸附的征象。

改进对策：

a) 改进膜系，外层加镀SIO2，是膜层表面光滑，不易吸附，改进镜片出罩是的环境（干燥、清洁）；

b) 降落出罩时的镜片温度（延长在真空室的冷却韶光）减少温差，降落应力；

c) 改进充氧（加大），改进膜层构造；

d) 适当的降落速率，改进柱状构造；

e) 镀膜过程利用离子源赞助，改进膜构造；

f) 加上POLYDOLD解冻是的小充气阀（其功能是及时带走水汽），并把稳解冻的是真空度；

g) 从蒸发源和夹具上想办法，改进蒸发角度；

h) 改进镜片表面的粗糙度；

3) 膜内白雾

征象：白雾形成在膜内，无法用擦拭方法去除。

可能的缘故原由：

a) 基片脏，表面有附着前工程的残留物；

b) 镜片表面堕落污染；

c) 膜料与膜料韶光、膜料与基片之间的匹配毛病；

d) 氧化物膜料失落养，氧量不足；

e) 第一层氧化锆膜料，可能对某些基片产生白晕征象；

f) 基片进罩前（洗濯后）受潮气的污染；

g) 洗濯或擦拭不良，洗濯痕迹或擦拭痕迹；

h) 真空室脏，水汽过重；

i) 环境湿度大

改进思路：基片本身的问题可能是紧张的，紧张是外不雅观清洁问题，镀膜只管即便填补，本身的可能性是膜料的匹配问题。

改进对策：

a) 改进膜系，第一层不用ZRO2；

b) 只管即便减少真空室开门韶光，罩与罩之间在最短的韶光内做好真空室清洁、镀膜准备事情；

c) 真空室的改换防护板、清洁后，最好能空抽真空烘烤一下，改换的防护板等真空室部件必须干燥、干净；

d) 改进环境，掌握温度、湿度；

e) 妥善保护进罩前在伞片上的镜片，免受污染；

f) 改进洗濯、擦拭效果；

g) 改进膜层匹配（考虑第一层利用AL2O3）；

h) 改进膜充氧和蒸发速率（降落）；

i) 加快前工程的流程，前工程对已加工面加强保护；

j) 抛光加工完成的光面，必须立即清洁干净，不能有抛光粉或其他杂质附着干结；

五、 色斑

色斑（也称膜色亚克、烧蚀）是指镜片上的膜色局部变异（一样平常不规则），有膜内色斑（含膜层色斑）和膜外色斑二种。
有时会涌现规则的局部区域（如凹镜片的中央或环状区域等）膜色变异。

色斑产生的缘故原由：

局部折射率变异，所谓膜色是薄膜光谱特性的反应，薄膜光谱分光特性的设计和大成是建立在一定折射率基片的根本上，如果镜片局部折射率改变，那么所杜的膜层在局部的光谱分光特性也有变革，局部点的膜色就会变异，形成膜内色斑。
镀膜中和镀膜后由于各类缘故原由，是的膜层的局部扎蛇绿变异，形成膜层或膜外色斑。

膜外色斑一样平常较浅，可以用抛光粉或碳酸钙擦拭掉。

分辨膜内膜层和膜外色斑有一个有效的手段是用抛光粉或碳酸钙擦拭，膜内、膜层、膜外的色斑的处理对策是不同的，

膜内色斑产生来源：

基片上局部折射率改变大都是由于基片局部被堕落造成的，堕落层一样平常形成一层极薄的低折射率层。

a) 前道加工过程中工装夹具、加工方法带来的；

这个局部可能大，也可能小，还可能大部，由此可能会有大小不等的色斑，这种色斑有一个特色，色斑的形状规则、部位同等、界线分明。

b) 周转、运输、库存产生；

有些镜片材料本身化学特性差，如H-ZK9耐水、耐酸性很弱，在前加工过程中不可避免的会与水打仗，会与湿润空气打仗，形成堕落，如果前加工与镀膜的周期长（超过5小时）就随意马虎产生膜内色斑，如果是反射膜、红外截止膜，这种堕落或污染不能用洗濯或擦拭的方法去除，镀膜后显示的便是色斑。

c) 研磨抛光工程在镜片表面落成后没有及时的将表面处理干净；

镜片抛光后表面有残留的抛光粉，液等干结在镜片表面，对镜片产生堕落或污染，这种堕落或污染不能用洗濯或擦拭的办法去除，镀膜后就显示出色斑。

d) 研磨粉抛光所用抛光液的PH值匹配没有受控，影响镜片在研磨加工到镀膜加工之间的化学稳定；

膜层和膜外色斑的产生来源：

a) 镀膜后，膜层的空隙中渗透了难以肃清的杂质，改变了局部膜层的折射率，从而膜形状成了色斑；

b) 镀膜过程中，有些高折射率基片的温度过高，造成局部膜层（也有可能是膜层和基片的结合部）折射率变异，也会造成膜层色斑的产生；

c) 膜系匹配中，有的膜层太薄，结晶处于不稳定状态，也有可能产生膜层色斑；

d) 膜系的膜料选择与基片材料的匹配不好，也是膜层色斑的产生缘故原由之一；

e) 机组的微凉返油，在镜片或膜层中形成的局部的极薄的油斑，也是膜层色斑的产生缘故原由，此类色斑出的膜强度一样平常较差；

膜内色斑改进对策：

a) 加快研磨抛光到镀膜的周期，减少镜片被污染堕落的几率，把稳：是镜片的全部抛光面；

b) 抛光加工中，把稳对另一壁的保护；

c) 把稳抛光加工中的工装、夹具、加工方法，以免造成对镜片表面的局部堕落侵害；

d) 抛光加工完成的表面，必须立即清洁干净，不能有抛光粉或其他的杂质附着干结；

e) 掌握抛光研磨液的PH值；

f) 镀膜前用抛光粉（氧化铈、氧化铁）或碳酸钙（甘油或水调和）对镜片进行表面处理，并及时的清洁而干净；

g) 加强镀前离子轰击清洁；

h) 对付可见光区域减反膜，在知足技能哀求的条件下设计制作成单峰型，反射程淡绿色，用此方法粉饰色斑；

i) 对付化学性能较好的镜片，在洗濯前先用退膜液或稀酸液浸泡去除堕落层；

j) 选择得当的膜层匹配对色斑改进也有帮助；

k) 提高得当的镀膜温度，加快水汽的彻底挥发（但可能会有膜层色斑产生，要根据详细情形剖析对策）；

l) 第一层镀上AL2O3膜层一样平常会有好的改进效果；

膜层、膜外色斑改进对策：

a) 对付减反膜，设计条件容许时，外层加镀SIO2,10nm旁边即可，使外层趋于光滑、致密，减少有害有

害物质的侵蚀（如果镀后离子源轰击，SIO2层会粗糙）；

b) 适当降落蒸发速率，提高膜层光滑度，减少吸附；

c) 镜片在出罩后，待冷却后再下伞和擦拭；

d) 镜片在出罩后，放置在清洁干燥的场合冷却，减少污染可能；

e) 用碳酸钙粉，轻擦去除外层附着物；

f) 改进事情环境的湿度和温度；

g) 改进充气口附近的环境，使充入的大气干燥、清洁；

h) 事情职员的个人卫生（口罩、服装、手套、指套）改进；

i) 反省真空返油情形，防止返油，有条件最好分子泵或冷泵；

j) 适当降落基片温度，（不能影响膜强度）；

k) 改进膜系，取消太薄的膜层，根据硝材特性，选择得当的膜层材料；

六、 光谱特性

光学薄膜产品中，光谱特性不良（分光不良）是一个常见的问题，光谱特性不良指的是分光反射（透射）曲线不能知足零件产品技能哀求，是功能性的不良，生产制造中必须严格监控。
造成光谱特性不良的缘故原由有很多，

紧张的有：

a) 膜系设计，设计时的厚度、折射率允差太小，试制是的分光曲线在技能哀求的边缘，制造中稍有偏差就导致分光不良；

b) 设计的膜料折射率与实际的折射率有差异，或发生了变异；

c) 实镀的中央波长（膜厚）与希望达到的中央波长（膜厚）有差异，或发生了变异，（TOOLING值，也叫F值有了偏差）；

d) 镀制中出了差错，如：膜料用错、程序用错、预熔时没关挡板等；

e) 工艺条件改变，真空度、充氧量、加热温度、蒸发速率、基片旋转速率、离子赞助条件等；

f) 材料变更，如不同厂家生产的同种光学材料（基片材料和膜料），在光学性能化学性能有所不同（有事同厂家不同批次的也有差异），生产过程中（特殊是大批量生产）材料溘然变更（未做论证），就可能造身分光不良；

g) 用于检测分光的比较片表面特性变异，造身分光检测不良，这是一个常见的问题点，而别是搞折射率的测试片，表面稍有污染，就会在表面形成一层减反膜，相称于改变了材料的折射率，造成光谱变异；

h) 机组工艺稳定性差，（抽速不稳、机组震撼大、测试片晶振片抖动、旋转不稳、伞变形、温度丈量偏差、加热功率不稳定等）；

i) 如果利用晶振掌握膜厚，晶振片的品质、利用寿命、活性值得变革，同一片晶振片，在利用一段韶光有了厚度往后，敏感度会有一些差异，也会带来光谱的漂移；

j) 晶振探头的水冷差，造成晶控不稳定，不可靠，厚度掌握不准确；

k) 刚镀完往后测试和放置一段韶光的测试，分光特性也会有一定的差异；

l) 有些膜料的折射率在成膜后会有变革（与成膜条件、膜层匹配有关），会造成光谱仪特性的变革；

m) 镜片折射率变异，有些基片材料，在经由超声波洗濯往后表面形成一极薄的低折射率层，对分光特性、膜色造成影响；

n) 采取光控时（非自动掌握），光亮值设置的不得当，或由于膜料折射率变革使得设置的光量有了偏差，带来分光特性的偏差或不稳定；

o) 光控中的监控片本身有了堕落层，影响了光控的走值；

p) 光控中的光旗子暗记不稳定，（电压颠簸、打仗不良、电子元器件问题等）影响精度和稳定性；

q) 光控中，有的膜层比较薄（特殊是底层比较薄时）不到一个峰值，带来光控的不准确性；

r) 非自动的光控，认为剖断时偏差；

改进对策：

a) 设计膜系：膜系设计中选用膜料的折射率应与利用的膜料利用几台吻合，设计时只管即便考虑厚度与折射率允差（各层的厚度及折射率允差1%-2%）特殊是敏感层，掌握厚度与实际测试厚度的TOOLING值，要准确，并常常确认调度，设计的技能哀求必须高于图纸提出的技能哀求，设计时考虑基片变异层折

射率变革带来的影响，考虑膜料的折射率及膜料之间与基片韶光的匹配；

b) 事情现场旁边的膜料、光控片、晶振片、硝材的生产厂家、型号一旦确认，不能常常变更，必须变更的必须多次试验，稳定才能利用。

c) 杜绝、避免低级缺点的发生（多指人为）；

d) 加强每罩镜片的分光测试监控，设置鉴戒分光曲线，及时调度膜系，掩护稳定性；

e) 测试计较片加强管理，确保每次利用的比较片表面无污染、堕落，利用前最好对计较片进行反射率检测，剖断是否可用；

f) 镜片的分光检测要在镜片彻底冷却往后进行，减少冷热状态下的差异，确保统一状态检测；

g) 节制晶振片敏感变革的规律，及时改动掌握数据，晶振片在利用多少罩后的敏感度有差异，芯片的声阻抗值会有眇小的变革，有些晶控仪（如IC5）可以设置自动改动，而大部分晶控仪没有自动改动声阻抗值得功能，节制了晶振片敏感度的规律，可以在膜厚仪上设置纠正；

h) 改进晶控探头的冷却效果，晶振片在温度大于50℃时，丈量偏差较大；

i) 采取离子赞助镀膜的工艺，可以提高成膜分光特性的稳定性；

j) 反省该膜系在设备的光控实用性；

k) 反省是否有人为成分的影响；

l) 常常检讨光控的光路、旗子暗记、测试片等；

m) 设计适用于光控的膜系；

七、 光谱分光不良的补救（补色）

分光不良分为两种情形，一是全部膜系镀制完成后，经检测分光不良，此类不良紧张按第六结所述的方法处理，一样平常减反膜难以补救，但是对付高反膜，带通滤光膜等可以通过夹层的方法补救。
二是镀制中途中断（包括创造缺点中断），造成的分光不良，一样平常都可以通过后续努力补救，补救方法精确，成功率还是比较高的。

中断的缘故原由有多种；

a) 停电

b) 机器故障

c) 人为中断（创造缺点，疑问中断）

中断后信息：

a) 知道镀到第几层，已镀各层的膜厚；

b) 知道镀到第几层，末了一层膜的膜厚不愿定；

c) 不知道镀了多少；

补救处理：

A. 对付a种情形，比较好处理，只要确认前面镀的没错，程序没有用错，就可以连续原来的程序，要把稳的是，如果某一层镀了一部分连续镀下去时，交卸处要减少一些膜厚（根据膜料蒸发速率决定减少多少，一样平常是0.2-1nm旁边），如果该层剩下的膜厚已不敷15-20秒蒸镀时，要考虑降落蒸发速率或干脆不镀，通过后续调度后面的膜厚断交；

B. 对付b、c情形的处理比较繁芜一些，须要通过仿照核对，根据已经镀的镜片或测试片，实测分光数据，输入打算机膜系设计程序的优化目标值，再根据已经节制的膜系信息输入，采取倒推法逐层优化，

仿照呈现实镀制的膜系数据；

C. 其它情形的处理，对付用错程序，缺点操作等人为的问题，以及反光膜、滤光膜镀后须要补救的情形处理，首先将实测的分光数据输入打算机，通过仿照优化，调度出补救厚度；

补救的过程比较繁琐，须要通过仿照、实验、再仿照、再实验的过程，是否须要看产品的代价，盲目补救

有时候会得不偿失落。

八、 破边、炸裂不良

一样平常的镀膜会对镜片加热，由于镜片是状态金属圈内的，由于治具与镜片的热膨胀系数不一致，冷却过程中会造成镜片的破边和炸裂，有些大镜片，由于出罩是的温度较高，与室温的温差较大，镜片的热应力浸染造成镜片炸裂或破边，有些零件边缘倒边的形状随意马虎造成与治具卡边分裂。

改进对策：

a) 治具的设计，在尺寸合营上要合理，充分考虑制造偏差带来的影响；

b) 把稳治具的变形，已经变形的是不能用的；

c) 选用得当的治具材料，（非导磁材料、不生锈、耐高温不变形），不锈钢较为空想（热变形系数小）， 便是加工难度大，价格贵；

d) 对付大镜片应降落出罩是的温度，减少温差，防止炸裂；

e) 也可以考虑治具开槽或割断，增加柔韧性，有较大的缓冲，但是治具寿命会减少很多；

f) 考虑不同直径及厚度的镜片与治具的间隙，普通的0.04-0.08mm，大直径的0.1-0.2mm不等；

九、 划痕（膜伤）

划痕是指膜表面有道子，膜内的称划痕，膜外的称膜伤，这也是镀膜品质改进中的一个顽疾，虽然很清楚产生的缘故原由和改进的方法，但是难以根治。

产生的缘故原由：

a) 前工程外不雅观不良残留，有些划痕在镀膜前不随意马虎创造，前工程考验和镀前上伞检讨都不随意马虎创造，而镀后会将划痕显现；

b) 各操作过程中的作业过失落造成镜片划痕；

c) 镜片摆放太密，搬运过程中造成相互磕碰形成划痕；

d) 镜片摆放用具、包装材料造成镜片表面擦伤；

e) 超声波洗濯造成的伤痕和清擦造成的伤痕；

f) 下治具时镜片与治具的碰撞造成的伤痕；

改进思路：反省各作业过程和干系工艺流程及用具的材料，肃清划痕的膜伤。

改进对策：

a) 检讨作业规范，纠正作业方法；

b) 记录缺点过失落清单，定期宣导督查，避免习气过失落；

c) 改进镜片摆放间隔，改进镜片放置打仗环境及包装材料；

d) 改进镜片流转办法，改进镜片拿取动作及办法，作业员事情时原则，先近后远；

e) 改进工艺，调度得当的洗濯工艺参数，定期检讨清擦辅耗清洁度，改进镀前事情环境，定期检测事情环境落尘量，定期清洁事情台过滤网；

f) 加强前工程考验和检讨力度，条件许可可制作外不雅观限度样板，定期组织考验员不雅观察学习，统一考验剖断标准；

g) 总结伤痕剖断办法，改进考验剖断环境，必要时采取强光灯考验，但是不能在次环境下剖断；