27亿一台！ASML展示最新EUV光刻机内部画面：不怕被偷师吗？

这种名为High-NA的EUV光刻机可以在半导体上制造出仅有8纳米宽的线条，比上一代产品的线条宽度要眇小得多，只有上一代的1/1.7。
更眇小的线条意味着芯片可以容纳更多的晶体管，这样就可以实现更快的处理速率和更大的存储容量，特殊是对付处理人工智能事情负载来说，这一点至关主要。

ASML公司上个季度收到了创记录的EUV光刻机订单，显示了包括英特尔、三星电子和台积电等大客户对这项技能的乐不雅观预期。
但由于多种缘故原由限定，中国厂商是不被许可购买这些设备的。

有些网友乃至感叹，纵然把这些EUV光刻机的内部构造展示给海内厂商，也可能根本无法阻挡他们逆向工程复制这项技能。
#天南地北大拜年#​#爆料#​

你们怎么看呢，评论区留言吧？