ASML展示价值3.8亿美元的High-NA EUV光刻机重达15万公斤

该系统已得到英特尔公司的订单，首台机器已于去年年底运抵其位于俄勒冈州的 D1X 工厂，英特尔操持在 2025 年年底开始利用该系统进行生产。

High-NA EUV 光刻机能够在半导体上蚀刻出仅 8 纳米宽的线条，是上一代产品的 1/1.7。
更细的线条意味着芯片可以容纳更多的晶体管，从而实现更快的处理速率和更高的存储容量，这对付人工智能事情负载至关主要。

ASML 首席实行官 Peter Wennink 上个月在接管彭博社采访时表示：“人工智能须要大量打算能力和数据存储。
我认为如果没有 ASML，如果没有我们的技能，这是不可能实现的。
这将成为我们业务的一大驱动力。
”

作为唯一一家生产制造最前辈半导体的设备供应商，ASML 的产品需求一贯被视为行业康健状况的风向标。
该公司上季度收到了创记录的顶级 EUV 光刻机订单，显示了包括英特尔、三星电子和台积电在内的大客户对该技能的乐不雅观预期。

ASML 发言人 Monique Mols 在公司位于荷兰费尔霍芬的总部举行的媒体参不雅观活动中表示，安装这台重达 150,000 公斤的系统共计用时 6 个月，须要 250 个集装箱和 250 名工程师。

去年底 OpenAI 推出 ChatGPT 后，天生式人工智能领域的发展引爆了全体半导体行业的增长预期，ASML 自 2018 年以来一贯在发卖低数值孔径 EUV 光刻机，售价为 1.7 亿欧元（当前约 13.21 亿元公民币）。