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清华大年夜学取得硅电极技能专利能解决微细电解加工状态无法监测的难题

编辑:[db:作者] 时间:2024-08-24 23:44:48

专利择要显示,本发明公开了一种集成电解液pH值检测单元的硅电极及其制备方法。

清华大年夜学取得硅电极技能专利能解决微细电解加工状态无法监测的难题

所述硅电极包括重掺杂硅基体、隔离层、键合层、pH值检测单元和绝缘层。
本发明通过在硅电极上设置pH值检测单元,使得该硅电极集电解加工、侧壁绝缘、pH值检测单元于一体,在电解加工的同时实时监测间隙内电解液的pH值,用于反响电解加工间隙内沉淀物含量,办理了微细电解加工状态无法监测的难题,可实现加工检测一体化。

本文源自金融界

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