单片机的天花板之一光刻机

我们都知道芯片这么小，这么精密，那么芯片是如何生产出来的呢？用刀刻？用水冲？自然弗成，由于芯片远比这小得多，动不动便是nm的，这些最小也便是m级别，那么到底是什么刻刀能做到这么风雅。

光刻机（lithography）别号：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。
它采取类似照片冲印的技能，把掩膜版上的风雅图形通过光芒的曝光印制到硅片上。

光刻的意思是用光来制作一个图形（工艺）；在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路构造临时“复制”到硅片上的过程。
形象的来说光刻机便是个“投影仪”，把我们想要的图案投影到芯片上。

光刻机详细是如何进行光刻的呢？我们大略地举个例子；以前的老式相机用的是胶卷来进行拍摄的，胶片平日里储存在玄色的地方，不能见光的，一旦见光就会变白。
光刻过程中也是用了一种一见光就会产生反应的分外胶片。
如果要在芯片上刻一个图案的时候，就在芯片上涂上这种分外胶片，把这个图案形状的光照上去，再经由一系列后续处理，这个芯片上有了这个图案。

光刻机种类

一、打仗式曝光（Contact Printing）：掩膜板直接与光刻胶层打仗。
曝光出来的图形与掩膜板上的图形分辨率相称，设备大略。
打仗式，根据施加力量的办法不同又分为：软打仗，硬打仗和真空打仗。

二、靠近式曝光（Proximity Printing）:掩膜板与光刻胶基底层保留一个眇小的缝隙（Gap），Gap大约为0～200m。
可以有效避免与光刻胶直接打仗而引起的掩膜板损伤，使掩膜和光刻胶基底能耐久利用；掩模寿命长（可提高10 倍以上），图形毛病少。
靠近式在当代光刻工艺中运用最为广泛。

三、投影式曝光（Projection Printing）:在掩膜板与光刻胶之间利用光学系统聚拢光实现曝光。
一样平常掩膜板的尺寸会以须要转移图形的4倍制作。

四、高精度双面：紧张用于中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件、薄膜电路、电力电子器件的研制和生产。

五、高精度单面：针对各大专院校、企业及科研单位，对光刻机利用特性研发的一种高精度光刻机,中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件的研制和生产。

目前海内用于生产芯片的光刻机是前道光刻68和后道封装28，国产28nm光刻机看是今年或者明年才能出，至于比28还要前辈的可能还要一段韶光，前辈的光刻机我们目前还处于蓝海阶段，如果有大牛能研发出来肯定是求名求利。

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