编辑:[db:作者] 时间:2024-08-25 05:19:24
1963年:创立
1964年:代理发卖美国公司生产的扩散炉(Thermco Products Corp. (U.S.))
1970年:建立日本本土生产基地,完成扩散炉国产化(diffusion furnaces)
1976年:研发出世界第一台高压氧化炉(high-pressure oxidation furnace)
1982年:开始研发离子注入设备和洗濯设备(ion implantation devices and CLEAN TRACK system)
1990年:平板显示器生产设备(FPD production equipment)
1993年:涂胶显影设备(Coater/Developer)
1994年:化学气相沉积设备 single-wafer CVD system
2002年:东电半导体设备(上海)有限公司成立:物流中央
2003年:东电电子(上海)有限公司:售后做事与培训中央
2011年:东电光电半导体设备(昆山)有限公司:液晶面板制造工厂
二、近五年营收
2019年:103.38亿美元
2018年:116.39亿美元
2017年:72.03亿美元
2016年:48.61亿美元
2015年:52.48亿美元
三、员工人数
2019年:13021人
2011年:10940人
四、紧张产品系列
Coater/Developer:涂胶显影设备Etch system:刻蚀设备Surface Preparation system 表面处理设备Deposition:沉积设备Test system:测试设备FPD system:平板显示设备五、TEL中国
东电半导体设备(上海)有限公司东电电子(上海)有限公司东电光电半导体设备(昆山)有限公司本站所发布的文字与图片素材为非商业目的改编或整理,版权归原作者所有,如侵权或涉及违法,请联系我们删除,如需转载请保留原文地址:http://www.baanla.com/rsq/137965.html
Copyright 2005-20203 www.baidu.com 版权所有 | 琼ICP备2023011765号-4 | 统计代码
声明:本站所有内容均只可用于学习参考,信息与图片素材来源于互联网,如内容侵权与违规,请与本站联系,将在三个工作日内处理,联系邮箱:123456789@qq.com