低成本DIY纳米级光刻机！这位95后男生火了…

最近，一位本科生低廉甜头光刻机的视频火了。

是的，你没听错，大连理工大学化工学院的学生彭译锋，竟然凭着一张图纸成功在家里搭建了纳米级光刻机，还成功光刻出~75微米（75000纳米）的孔径。

这位同学还在读本科，全体制造过程都是在一间超简陋的小书桌上完成的，全部数学演算全靠一张白板，所有的材料都堆放在桌上地上，切实其实便是“家居实验室模范”。

大概长这个样子��，非常接地气了。

彭同学在视频中表示，他制造光刻机的图纸来自自己西安电子科技大学的同学，图纸大概长下图这个亚子。
彭同学也正是凭借着这张图纸，完全复刻了整台纳米级光刻机。

小彭同学拿到图纸第一反应：这不是两台显微镜嘛？

实在早在今年5月，彭同学已经发布了一个半导体光刻教程-1CM工艺教程成果，目前75m工艺是在1cm的研究上研究出来的，当时由于韶光有限，以是他之前完成了一层，真正量产的芯片不止一层，这里是做一个大略的示范。

在他的其它视频中是有做准备事情的，比如培养单晶硅片，须要把全体硅片的表面全部用氧化层覆盖。
光刻掩板也须要小心放置，非常的薄弱，随意马虎直接碎掉。
Nmos板粉饰部分还须要上胶水。

目前的研究成果他大概花了半年自己琢磨出来的，最早的兴趣来自高中的时候，那个时候还没有视频和资料，但是他便是想自研芯片。

并且彭同学也想通过视频给大家证明，环境怎么样不主要，有动手能力和兴趣就足够啦！

专业技能，超低本钱，寻衅低廉甜头光刻机的极限

小彭同学在一段21分钟的快进视频中呈现了低廉甜头光刻机的全体过程。

首先他先自建微纳米平台，两台显微镜加一个激光雕刻机等部件就位。
雕刻机的功率是500毫瓦。
由于硅片具有反射性，以是在雕刻时必须要带上护目镜。

左边这台带屏幕的显微镜还是找同学借的，紧张是用来不雅观察实验结果的。

还有悬涂设备，用来悬涂比较大的设备。
用显微镜改装成微缩光刻机，用普通的镜头先对焦，对焦好往后再用光刻的镜头进行操作。

光刻镜头是用锡纸改装的，起到散热和遮蔽外泄紫外线的浸染。
连接线加LED紫外灯，大约10瓦的功率，由于紫外线随意马虎对人体造成侵害，以是务必要用锡纸做掩蔽，镜头里也须要掩膜以及游标卡尺，黄光灯来合营。

芯片少不了光刻胶这种质料，小彭同学花了不少力气，终于淘到了一小瓶光刻胶（150元），光刻胶的外袋是玄色遮光的，但Bug是装光刻胶的瓶子却是透明的，以是说不能一拿得手就打开，一旦随意打开就随意马虎全部曝光了，最好是在黄光（特定区域）的背景下打开。
还要把光刻胶进行分装，大概每次3-4ml，取胶剂、显影液就准备自己调试一下。

由于光刻胶的瓶子都这天本入口的，小彭同学不禁感叹：我们还有很多须要学习的地方，比起现有的技能还有很大的间隔。

配置显影液，利用袋装的氢氧化钠，为什么没有用成品显影液呢？由于小彭同学还是学生，预算不足，仅有的钱拿去买光刻胶了，配上某臣氏的蒸馏水，虽然不是链子级别的超纯水和去离子水，但是蒸馏水也能凑合。
经由反复调试，配置的显影液的PH值大概在9.3旁边，须要配置500ml旁边。

再便是预热加热台，110C，打开除湿用的净化器。

仔细阅读光刻胶解释书。
把玻璃片进行悬涂之前，要用氮气撤除表面的灰尘。

再开始滴一些光刻胶，就可以开始悬涂了。
细节部分也很充分，风扇的转数须要达到4000转以上，否则达不到效果。

悬涂完成后放在预热好的加热台上，放置韶光为90秒，过程中最好用锡纸盖上，以免灰尘异物落在玻璃片上。

接下来就可以进行工艺参数的设置，速率调成2000旁边，功率调到40%，选择点雕刻，并选择每mm两个点，勾留韶光为2毫秒，全部设置好后，开启热光模式。

然后进行对焦，就可以开始光刻了。

再拿出刚配好的显影液，不要倒太多，以免浓度过高，没有空间可以稀释以及补充碱液。

配置妥当后，反影就可以开始了。
玻璃片的表面会有赤色物质天生，是重新溶解的光刻胶。

由于是自配的显影液，以是在某些参数的位置节制得不太好。

显像的位置不是很明显，只能看到一片玻色显影。

如果要看详细的，只能在显微镜下面看，有的地方是被堕落得不是很好。
并在中等位列的情形下，是可以看到做出来的效果还可以，黑影的位置是在刚刚处理得不足充分，还短缺一些堕落韶光。

最高分辨率的情形下，一个点的构造：

根据对孔径的丈量，大概是75m的直径。

网友评论：用最简陋的设备考试测验最有趣的事

目前，小彭同学的视频已经有了20万的播放量。
网友们对此评价也相称高。

有的网友劝小彭同学毕业后直接去上海微电子应聘，评论区也有专业人士约请他一起互助研发。

中国何时能摘取这只“工业上的皇冠”？

光刻机技能一贯被誉为“工业之光”“工业上的皇冠”。

成功生产半导体芯片的技能紧张分成，湿洗、光刻、离子注入、干蚀刻、湿蚀刻、等离子冲洗、热处理、快速热退火、退火、热氧化、化学气相淀积（CVD）、物理气相淀积（PVD）、分子束外延（MBE）、电镀处理、化学/机器处理、晶圆测试和晶圆打磨，经由这些步骤都成功后，才能出厂封装。

看着步骤挺多，但是再看看制作工序，个中的第二步便是光刻，也便是说，如果我们还没有节制5纳米和7纳米的技能工艺，后面的工艺基本就无法连续。

为了能研发出我们国家的自产芯片，不知道有多少精良的人才正在日以继夜地进行苦心研讨，早日国产化，是我们每一个中国人的心愿。

就像小彭同学的评论里说的那样：他放上这个手把手微纳加工平台的组装传授教化视频，以专业技能、超低本钱，寻衅低廉甜头光刻机的极限-75m工艺，只为唤醒更多新生力量对科技的追求和探索！

我们也祝他，

早日梦想成真。

来源：大数据文摘 ID：BigDataDigest 作者：笪洁琼 原文有删节